三道工序需要通过光刻机、刻蚀机以及薄膜沉积设备来完成。设备总成本占到。中微公司的刻蚀机设备或将帮助国内芯片制造商实现3nm技术突破。台积电和光刻机不能作为对比，台积电是全球比较大的芯片代工厂是做芯片加工的，而光刻机是加工芯片的工具，台积电公司里面有挺多光刻机的，没有光刻机他也生产不了顶级的芯片啊。在打破封锁的道路上,我们始终没有让全世界失望过。技术将芯片制程推进到nm以下,初看这个貌似也不是很先进,但是,重点是,用NIL推进到nm以下,或者5nm,是不需要光刻机的,这是一条全新的道路,对整个芯。
台积电的实力如何?和光刻机相比,有什么区别?
三道工序需要通过光刻机、刻蚀机以及薄膜沉积设备来完成。设备总成本占到。 中微公司的刻蚀机设备或将帮助国内芯片制造商实现3nm技术突破。
台积电和光刻机不能作为对比，台积电是全球比较大的芯片代工厂是做芯片加工的，而光刻机是加工芯片的工具，台积电公司里面有挺多光刻机的，没有光刻机他也生产不了顶级的芯片啊
在打破封锁的道路上,我们始终没有让全世界失望过。
冰刻技术,在理论和技术上能实现现在的EUV光刻机的精度吗?
技术将芯片制程推进到nm以下,初看这个貌似也不是很先进,但是,重点是,用NIL推进到nm以下,或者5nm,是不需要光刻机的,这是一条全新的道路,对整个芯。
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